日本SMC半導(dao)體(ti)工程潔凈(jing)/低(di)發塵/無(wu)銅(tong) /氟離子(zi)

SMC氣缸(gang)，SMC電(dian)磁(ci)閥(fa)，SMC氣爪(zhao)，SMC真空(kong)發(fa)生器(qi),SMC過濾器(qi)，SMC吸盤，SMC減壓(ya)閥(fa)，SMC油(you)霧(wu)器(qi)，SMC接頭(tou)，SMC氣管，SMC消聲(sheng)器(qi)，SMC壓(ya)力表，SMC氣缸(gang)，SMC磁性(xing)開關，SMC壓(ya)力開關,SMC傳感(gan)器(qi)，SMC,日本SMC——上(shang)海(hai)天籌

產(chan)品(pin)名稱      潔凈(jing)系(xi)列    
系(xi)列          10- 11- 12- 13- 
特(te)長(chang)/規(gui)格    
減少(shao)潔凈(jing)室(shi)內的(de)微(wei)粒(li)。
根(gen)據工件發塵量可(ke)分為(wei)1~4個(ge)等級(ji)。根(gen)據清潔室(shi)內的(de)清潔程度選擇使(shi)用。
使用(yong)氟素(su)系(xi)潤(run)滑脂(zhi)。
使(shi)用帶(dai)電(dian)防(fang)止(zhi)袋(dai)並(bing)雙層(ceng)密(mi)封(feng)。

產(chan)品(pin)名稱      無(wu)銅(tong)/無(wu)氟(fu)/無(wu)矽(gui)系(xi)列＋低(di)發(fa)塵    
系(xi)列          21-/22-     
特(te)長(chang)/規(gui)格
限制使(shi)用(yong)銅/氟/矽(gui)材質(zhi)的(de)環境(jing)下使用(yong)。
使用(yong)鋰(li)皂(zao)基(ji)系(xi)潤(run)滑脂(zhi)。
尺(chi)寸與潔凈(jing)系(xi)列相(xiang)同。
密(mi)封(feng)為(wei)普通(tong)密封(feng)(不采用雙層(ceng)密(mi)封(feng))。

搬送(song)工件時，因始(shi)動及(ji)行(xing)程末(mo)端(duan)的(de)沖(chong)擊，可能會對(dui)工件有(you)影響(xiang)。緩(huan)和(he)該沖(chong)擊、保護工件、減輕發(fa)塵、提(ti)高生產(chan)率是我們所(suo)追(zhui)求(qiu)的(de)。
按搬送(song)系(xi)統(tong)的目(mu)的，按(an)功(gong)能可分成搬運(yun)、進給、推(tui)壓(ya)(固定(ding))、提(ti)升、回(hui)轉(zhuan)/
反轉(zhuan)、夾緊(jin)、吸(xi)著等(deng)。這(zhe)些(xie)功能，要充(chong)分發(fa)揮作(zuo)為(wei)潔凈(jing)搬送(song)的(de)性(xing)能時，有(you)
必(bi)要對(dui)①發塵②沖(chong)擊③固著④防(fang)靜(jing)電(dian)⑤吸(xi)著(zhe)痕(hen)跡(ji)等各(ge)要(yao)素(su)及(ji)其(qi)復(fu)合要
素(su)采取對策。

②沖(chong)擊
隨(sui)著提(ti)高生產(chan)率的(de)高速化以(yi)及(ji)讓(rang)工件平穩(wen)運動的(de)定(ding)速·低速化，有(you)必(bi)要對(dui)沖(chong)擊采取對策。
a.高速要求(qiu)…為(wei)了(le)避免慣(guan)性(xing)力對機械的沖(chong)擊及(ji)振動，有(you)必(bi)要采取緩(huan)和(he)對策。
b.低速要求(qiu)…為(wei)了(le)讓(rang)工件平穩(wen)送進不產(chan)生爬行(xing)現(xian)象，有(you)必(bi)要采取穩定(ding)的低(di)速驅(qu)動對(dui)策。

③固著
a.防(fang)止(zhi)急速伸(shen)出…長(chang)時間放置後，因潤(run)滑脂(zhi)粘(zhan)度的變化(hua)·密(mi)封件(jian)固著影響(xiang)始(shi)動等(deng)，有(you)必(bi)要采取防(fang)止(zhi)急速伸(shen)出的(de)對(dui)策。

④防(fang)靜(jing)電(dian)
a.由(you)於(yu)靜(jing)電(dian)，灰(hui)塵的(de)再附(fu)著(zhe)及(ji)工件受損(sun)等，有(you)必(bi)要采取防(fang)止(zhi)對(dui)策。

⑤吸著(zhe)痕(hen)跡(ji)
a.為(wei)減少(shao)真空(kong)吸(xi)盤(pan)的(de)吸(xi)著痕(hen)跡(ji)有(you)必(bi)要采取對策。